「ＥＵＶリソグラフィの課題と今後の展開」

ＥＵＶリソグラフィについて、ハードウェア（露光機）、プロセスおよびマスク、レジスト材料など量産適用のための技術開発が進められているが、レジスト材料、光源などのさらに改良が必要な課題も残されている。本講演では、このような状況の中で、技術開発の現状および今後の展望について概説。