「MEMS用レジストの新展開」
t-masterＳＵ－８レジストはすでに高アスペクト、側壁の垂直パターンなどが可能なＭＥＭＳ用永久膜形成材料としての地位を確立している。本講演では、さらにこれを発展させた次世代型レジストの特性や応用と課題について紹介。
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| 回 | 第232回講演会 |
|---|---|
| テーマ | 『フォトポリマーによる微小構造形成技術の新展開』 |
| 開催年月日 | 2019年6月6日 |
| 講演タイトル | 「MEMS用レジストの新展開」 |
| 講演者 | 小野 禎之 |
| 所属 | 日本化薬（株） |
| 講演概要 | ＳＵ－８レジストはすでに高アスペクト、側壁の垂直パターンなどが可能なＭＥＭＳ用永久膜形成材料としての地位を確立している。本講演では、さらにこれを発展させた次世代型レジストの特性や応用と課題について紹介。 |
| キーワード | ＳＵ－８、ＷＬＰ、ＭＥＭＳ、エポキシ、カチオン、高アスペクト、垂直パターン、永久膜 |