「光酸発生剤の基礎」
光酸発生剤は、カチオン重合および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられており、それら用途によって、適応する光発生剤も異なってくる。本講演では、光酸発生剤の分類・反応、それぞれの応用で要求される特性、およびその組成物の性能を最適化するための光酸発生剤の選択について紹介。
感光性樹脂(フォトポリマー)に関する情報を発信する学術団体です。
光酸発生剤は、カチオン重合および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられており、それら用途によって、適応する光発生剤も異なってくる。本講演では、光酸発生剤の分類・反応、それぞれの応用で要求される特性、およびその組成物の性能を最適化するための光酸発生剤の選択について紹介。
| 回 | 第29回フォトポリマー講習会 |
|---|---|
| テーマ | |
| 開催年月日 | 2019年8月29日・30日 |
| 講演タイトル | 「光酸発生剤の基礎」 |
| 講演者 | 白石 篤志 |
| 所属 | サンアプロ(株) |
| 講演概要 | 光酸発生剤は、カチオン重合および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられており、それら用途によって、適応する光発生剤も異なってくる。本講演では、光酸発生剤の分類・反応、それぞれの応用で要求される特性、およびその組成物の性能を最適化するための光酸発生剤の選択について紹介。 |
| キーワード | 光酸発生剤、カチオン重合開始剤、コーティング、フォトレジスト、カチオン重合、脱保護 |