「フォトポリマーの特性評価」
t-masterフォトポリマーを設計、開発、使用するうえで、あるいはその材料を扱ううえで必要な特性評価を概説する。膜厚、光量の測定、フォトレジストのリソグラフィ特性、過渡吸収と活性種同定、膜の諸物性、化学反応速度論と量子収率まで広い範囲の項目をほぼ網羅する。
t-master
| 回 | 第29回フォトポリマー講習会 |
|---|---|
| テーマ | |
| 開催年月日 | 2019年8月29日・30日 |
| 講演タイトル | 「フォトポリマーの特性評価」 |
| 講演者 | 関口 淳 |
| 所属 | リソテックジャパン（株） |
| 講演概要 | フォトポリマーを設計、開発、使用するうえで、あるいはその材料を扱ううえで必要な特性評価を概説する。膜厚、光量の測定、フォトレジストのリソグラフィ特性、過渡吸収と活性種同定、膜の諸物性、化学反応速度論と量子収率まで広い範囲の項目をほぼ網羅する。 |
| キーワード | 化学増幅型レジスト、感度、解像度、反応メカニズム、溶解抑制剤、酸発生剤 |